Low temperature thermal atomic layer deposition of aluminum nitride using hydrazine as the nitrogen source
- Jung, Y.C.
- Hwang, S.M.
- Le, D.N.
- Kondusamy, A.L.N.
- Mohan, J.
- Kim, S.W.
- Kim, J.H.
- Lucero, A.T.
- Ravichandran, A.
- Kim, H.S.
- Kim, S.J.
- Choi, R.
- Ahn, J.
- Alvarez, D.
- Spiegelman, J.
- Kim, J.
ISSN: 1996-1944
Año de publicación: 2020
Volumen: 13
Número: 15
Páginas: 1-10
Tipo: Artículo