Low temperature thermal atomic layer deposition of aluminum nitride using hydrazine as the nitrogen source

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Revista:
Materials

ISSN: 1996-1944

Ano de publicación: 2020

Volume: 13

Número: 15

Páxinas: 1-10

Tipo: Artigo

DOI: 10.3390/MA13153387 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso aberto editor
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