Low temperature thermal atomic layer deposition of aluminum nitride using hydrazine as the nitrogen source

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Zeitschrift:
Materials

ISSN: 1996-1944

Datum der Publikation: 2020

Ausgabe: 13

Nummer: 15

Seiten: 1-10

Art: Artikel

DOI: 10.3390/MA13153387 GOOGLE SCHOLAR lock_openOpen Access editor
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