New vaporization sources for H2O2 for pre-treatment/cleaning of ALD deposition surfaces

  1. Alvarez, D.
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  4. Arya, B.
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Actas:
ASMC (Advanced Semiconductor Manufacturing Conference) Proceedings

ISSN: 1078-8743

ISBN: 9781467350068

Año de publicación: 2013

Páginas: 159-162

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1109/ASMC.2013.6552788 GOOGLE SCHOLAR
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