Low temperature thermal ALD of a SiNx interfacial diffusion barrier and interface passivation layer on SixGe1− x(001) and SixGe1− x(110)

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Revista:
Journal of Chemical Physics

ISSN: 0021-9606

Año de publicación: 2017

Volumen: 146

Número: 5

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.4975081 GOOGLE SCHOLAR