Sacrificial hardmask ALD with hydrogen peroxide: Comparative study of low temperature growth and film characteristics for TiO2 and Al2O3

  1. Alvarez, D.
  2. Andachi, K.
  3. Tsuchibuchi, G.
  4. Suzuki, K.
  5. Spiegelman, J.
Actas:
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

ISSN: 1996-756X,  0277-786X

ISBN: 9781510634190

Año de publicación: 2020

Volumen: 11326

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1117/12.2551699 GOOGLE SCHOLAR
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