Quantitative depth profiling of boron and arsenic ultra low energy implants by pulsed rf-GD-ToFMS

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Revista:
Journal of Analytical Atomic Spectrometry

ISSN: 0267-9477,  1364-5544

Año de publicación: 2011

Volumen: 26

Número: 3

Páginas: 542-549

Tipo: Artículo

DOI: 10.1039/C0JA00197J GOOGLE SCHOLAR
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